應用平臺擁有國內一流的光刻膠檢測評價裝置
輔助機臺有關光刻機光刻膠的輔助機器產品

TEL CLEAN TRACK ACT8

適用于150mm的各種材料的工藝處理I線,248納米,和193納米的工藝能力全自動的勻膠、顯影功能,層疊架構多層熱處理模塊,結構緊湊,高產能、高可靠性

Hitachi S-9220s CD-SEM

電子掃描顯微鏡,用于曝光蝕刻后微細線條線寬的檢查,具有自動圖形識別、直徑檢測、多項目自動分析操作的技術功能,遠高于光學顯微鏡的放大倍數。

Hitachi S-4800 FE-SEM

日立S4800冷場發射掃描電子顯微鏡采用半內透鏡設計,新型物鏡采用專利的ExB設計。使用單檢測器和超級ExB可以分別收集和分離單純二次電子、混合二次電子及背散射電子的信號,可以適應不同樣品的高分辨觀測需求,是納米級研究的必備工具。

LTJ-RDA-790

光刻膠顯影分析,是最先進的18頻道沖洗速度分析評價裝置,可以對光致抗蝕劑的顯影速度進行評價。

LTJ-UVES-2000

是供實驗使用的開放的架子曝光裝置,配合LTJ-RDA-790使用。搭載Hg-Xe電燈,用過濾器可以用于248nm,365nm,436nm等波長的曝光。

大塚optm-A1膜厚儀

適用于150mm的各種材料的工藝處理I線,248納米,和193納米的工藝能力全自動的勻膠、顯影功能,層疊架構多層熱處理模塊,結構緊湊,高產能、高可靠性

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